8 月 20 日的 IT House 新闻？据外媒BusinessKorea报道，三星电子和SK海力士正在研究使用多种韩国半导体制造相关材料和设备来替代进口产品。这是为了降低供应链风险，确保自己的半导体工厂正常生产。

三星电子正在测试来自韩国制造商的 EUV 光刻胶样品。据悉，三星将于今年下半年开始使用这种光刻胶，用于其14nm工艺DRAM的生产。 EUV光刻胶是半导体芯片生产的核心材料，用于曝光工艺。在目前此类产品的全球市场中，日本产品的市场份额超过90%，构成垄断。由于日本限制向韩国出口 EUV 光刻胶两年多来，三星电子正在努力寻找更可靠的本地光刻胶供应商。

SK Hynix 正在与韩国氢氟酸制造商合作？RAM Technology合作减少对进口产品的依赖。目前，SK海力士已经在韩国和中国的芯片工厂使用了韩国产的HF氢氟酸。

IT之家了解到，现在中国企业也在努力研发，以逐步摆脱对进口芯片制造设备的依赖。据此前消息，南大光电ArF？光刻胶已通过专家组验收，可用于90nm~14nm工艺。对于7nm工艺所使用的光刻胶，南大光电表示，目前只是小规模投产，相关生产线正在建设中，不确定因素较多。

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