《材料研究学报》
光刻机是生产高端芯片的核心设备之一,我国芯片制造技术之所以一直被三星、台积电甩在身后,原因之一就在于缺少高端光刻机。其实,中芯国际早在2018年就向荷兰ASML下单了极紫外光刻机。按照合同,该设备应该在2019年交付,但由于美国从中作梗,荷兰一直不批准该设备出口,所以中芯国际至今没有收到货。
当然,中国芯片产业落后并非只体现在光刻机短缺这一个方面,事实上,生产芯片的许多重要材料,国内芯片厂商也都需要进口采购,光刻胶便是其中之一。该材料几乎被日本厂商垄断,即便中国芯片产业链有企业生产出光刻机,但如果没有光刻胶,也于事无补。
不过最近一段时间,中国芯片产业链一直都有好消息传出。早在今年4月,南大光电曾购入193纳米沉浸式光刻机,之后,南大光电便在该设备基础上进行光刻胶产品的开发,如今三个月时间过去,这家中国公司也终于迎来技术突破。据知情人士透露,南大光电的ArF光刻胶正在按计划进行客户测试,不久后或实现量产。
值得一提的是,南大光电曾发布公告称,其子公司收到地方政府的1584万补贴,专门用来研究ArF光刻胶的开发与产业化,可见地方政府对芯片产业的支持态度。按照之前大光电的规划,公司ArF光刻胶项目总投资高达15.6亿,年产量将达到25吨,未来实现自给自足,甚至是出口都没有任何问题。
当然,大光电并不会只建立生产中心。在拿到地方政府投资后,公司需要建立的是完整配套的国产光胶产业链基地。不仅包含开发、生产、销售平台,而且还有检测机构,可以为当地带来众多工作岗位。
而对于国内芯片产业而言,随着产业链完善,大光电将逐渐把握住市场发展方向和速度,并且适应新技术和新材料的更新换代和生产,为国内芯片产业链发展提供必要的材料供应保障。你对光刻胶产品还有多少了解?不妨谈谈你的观点。
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